GR5 titanmålmaterial hänvisar till förstoftningskällan som bildar olika funktionella filmer på substratet genom magnetronförstoftning, multibågjonplätering eller andra typer av beläggningsutrustning under lämpliga processförhållanden. Sputtermål används i stor utsträckning inom dekoration, formar, glas, elektroniska enheter, halvledare, magnetisk inspelning, planskärm, solceller och många andra områden.

Renhet är ett av målmaterialets huvudsakliga prestandaindex eftersom renheten hos målmaterialet har stor inverkan på den tunna prestandan.

Olika målmaterial har olika krav på olika föroreningshalt under olika förhållanden.

Vanligtvis är målmaterialet polykristallint med kornstorlekar som sträcker sig från mikron till millimeter. För samma mål är förstoftningshastigheten för målet med det fina kornet snabbare än det för målet med grovkornigt. De tunna filmerna som avsatts genom målförstoftning med mindre kornstorleksskillnader (likformig fördelning) har en mer enhetlig tjockleksfördelning.

Leverantörer av titanförstoftningsmål

High Purity Titanium Sputtering Target Hög renhet Titanium Sputtering Target